ポリウレタン研磨パッド

ポリウレタン研磨パッドは、注型または成型されたポリウレタン エラストマーから作られた高性能素材です。{0}弾性、復元力、面均一性に優れており、精密表面仕上げ加工に最適です。ポリウレタンの独特の気泡構造または固体構造により、摩耗を制御し、一貫した研磨結果を得ることができます。

当社のポリウレタンパッドは、高い寸法精度と表面平滑性が要求される半導体、光学、金属、ガラスの研磨用途に広く使用されています。

半導体ウェーハ研磨（CMP）
マイクロエレクトロニクス製造におけるシリコンウェーハ、サファイア基板、ガラスパネルに使用されます。

光学レンズとガラスの研磨
光学グレードの研磨に優れた平坦性と透明性を提供します。{0}}

金属および精密部品の仕上げ
ステンレス鋼、アルミニウム、および高い表面品質を必要とするその他の金属に最適です。

自動車および航空宇宙部品
金型、タービンブレード、塗装部品の仕上げに使用されます。

優れた弾性回復力
安定した研磨圧力を維持し、ワーク表面全体に均一な接触を保証します。

高い耐摩耗性
優れた耐久性によりパッドの交換頻度を軽減し、長期間にわたり安定したパフォーマンスを保証します。

化学的安定性
水、アルコール、工業プロセスで使用されるさまざまな研磨スラリーに対する耐性があります。

カスタマイズ可能な硬度と密度
ショア硬度は40A～90Aで、さまざまなレベルの研磨精度に適しています。

滑らかで均一な表面
均一な材料除去と高品質の鏡面仕上げを保証します。{0}

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